Substitua o óleo de secagem de acordo com o método Chilikin. receitas simples

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Óleo de secagem substituto de acordo com o método Chilikin. receitas simples e dicas

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Preparação óleo de secagem substituto de acordo com o método Chilikin baseado no aquecimento do alcatrão de pinho com óxidos metálicos, especialmente óxido de chumbo, preferencialmente na presença de catalisadores, como sais de manganês ou sais de cobre.

Segundo o autor deste método, a massa assim obtida é resistente aos fenómenos atmosféricos e aos fumos ácidos, é facilmente diluída com terebintina ou outros solventes orgânicos, mistura-se bem com tintas minerais e não tem resistência inferior ao óleo secante natural. O autor explica essa conexão em parte pela formação de compostos de chumbo de ácidos abiéticos, em parte por compactação e oxidação sob a influência de substâncias entrantes.

A produção é realizada da seguinte forma.

24 kg de alcatrão de pinheiro e 5 kg de óxido de chumbo são colocados na caldeira, aquecida acima de 150 °C durante cerca de 3 horas, até a massa atingir a consistência desejada; resfrie a 100 °C e adicione 48 kg de terebintina simples. Rendimento - 72kg.

Autor: Korolev V.A.

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O novo dispositivo atrasa a luz por um tempo que corresponde à passagem por 50 m de fibra. Uma característica fundamental é o uso de um guia de luz especialmente projetado: as perdas de absorção são de apenas 0,05 dB / m versus 1 dB / m para elementos semelhantes anteriores. Devido à menor absorção, os cientistas aumentaram o comprimento da trajetória e, como resultado, o tempo de atraso do pulso.

O guia de luz é enrolado e tem a forma de uma ranhura semicircular na matriz de silício. Nas laterais, é parcialmente coberto por um "dossel" horizontal de óxido de silício. A ranhura tem cerca de 150 µm de largura, cerca de 100 µm de profundidade e cerca de 50 µm de largura. Foi possível obter tal sulco de sete metros de comprimento por litografia e ataque com ácido fluorídrico com difluoreto de xenônio. O ácido fluorídrico, HF, removeu o óxido de silício, e o difluoreto de xenônio, XeF2, dissolveu o substrato de silício.

Ao variar a duração da ação dos produtos químicos durante a gravação, os cientistas puderam alterar a forma dos sulcos. A expansão sob a camada de óxido de silício é obtida devido ao fato de que o silício puro se dissolve mais rapidamente que o óxido.

Esse método de produção, segundo os cientistas, é compatível com as tecnologias modernas e pode ser implementado na indústria, e não apenas no laboratório. Chips que atrasam a luz por um tempo são necessários para processamento de sinal em uma ampla variedade de aplicações, incluindo varredura de radar e sistemas de telecomunicações. Eles estão em demanda, inclusive por desenvolvedores militares, então o trabalho foi financiado pelo DARPA, o Escritório de Pesquisa Avançada do Pentágono.

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